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强酸阳床:(1)出水钠漏泄高于规定值

　2、强酸阳床：

　　(1)出水钠漏泄高于规定值。这不太发生，如有，则应检查再生步骤，有时阳床用混床再生废液串联再生，这时须注意混床废液初的15-30%须弃去，否则将有钠离子进入阳床，此外，混床废液中的酸量须检查是否足够。

　　(2)出水漏硬度。如果用***再生，那时由于***钙沉淀，应检查酸的浓度(从系统中取样分析)及再生流速，如水中钙离子量超过总离子的50%，须采用分级再生，初浓度应不大于2%，流速为12升/小时/升树脂。

再生强碱阴床后的碱液中含有二氧化硅等电点时

　(2)高pH、漏钠、电导率。这是由于阴树脂床中混入了阳树脂，在碱再生时，阳树脂呈钠型，在运行中逐渐放钠。阴床出水有钠，是由于强酸阳床出水漏钠。

　　(3)二氧化硅问题。如阴床串联再生，尤为容易产生此问题，强碱阴床再生后的碱液中含有二氧化硅，经弱碱阴床后，又进行了碱性中和，而使pH下降，当达到碱液中二氧化硅等电点时，二氧化硅就在树脂上沉淀下来。在以后运行中，由于水解而使出水中二氧化硅增加。

　　解决这问题的方法是，再生强碱阴床后的碱液先排除15-30%，或将碱液稀释至2%，还须保证NaOH有理论工作交换容量的130%。

　　4、强碱阴床：　不论是Ⅰ型还是Ⅱ型，关键问题是二氧化硅漏泄，与强酸阳树脂及弱碱阴树脂不同，强碱阴树脂的热稳定性较低，只有60℃及40℃， 否则树脂会发生降解。

　　如因热及氧化作用，使强碱基团损失，这样就造成二氧化硅漏泄，因此，在运行中须保持在温度极限范围内。此外，强碱阴树脂易受有机物污染，产生如下后果：

　　(1)pH降低;(2)电导率;(3)二氧化硅漏泄增加;(4)淋洗水量增加。

　　其中：(1)和(2)是由于在树脂上的有机物再生后部分水解所造成的，(3)是由于污染物的位阻效应使NaOH再生不完全，(4)是由于污染物的作用。

混床系统(1)淋洗水量增大

　5、混床系统

　　(1)淋洗水量增大。混床系统淋洗水量增大是由于树脂的交叉污染，如NaOH与混入阴床的强酸阳树脂作用，将钠盐存在于阳树脂上，或HCl(H2SO4)与混入阳床的强碱阴树脂作用，将氯根(***根)存在于阴树脂上。　　交叉污染主要是由于树脂在分界面上的混杂。在这情况下，钠及氯根(***根)漏泄增大，使淋洗时间增加。经验显示，虽然冲洗钠漏泄很麻烦，但其影响不及***根离子漏泄严重，后者在凝结水净化系统中的后果尤为突出，常用的方法是将出水进行再循环，这方法是很耗时的。

　　采用三层混床树脂，可减少再生剂对阳、阴树脂的交叉污染，使混床淋洗水量过大的弊病得到改善。　　(2)出水质量下降。混床系统要求阳、阴树脂须充分混合。如果阳、阴树脂混合不好，在很多部位还是呈分层状态，出水质量就会降低。一个重要的事项是，在空气混合时，树脂床层上部的水层必须小于5厘米，如果树脂床不先疏水至上述水位，那么不管空气搅拌多么激烈，当搅拌停止时，树脂就按密度差别重力沉降，使阳、阴树脂分层，而产生上述问题。